​検査装置

VCSEL檢測

晶圓測試機

VWP5040A

概  要

該設備是LD測試晶片探測器,可在常溫(20°C)到高溫(95°C)環境下自動測量WAFER狀態下VCSEL激光二極管的電和光學特性。在測量之前執行映射,並且根據映射一一進行IL和λ測量。 IL和λ測量完成後,依次執行FFP測量和NFP測量。它是與多光束VCSEL兼容的自動探測器。

 測定対象

Multi-beam VCSEL wafer

Wafer Mapping機能

在測量之前,高速執行晶圓Maping。

温度控制方式・範囲

・由Peltier來控制溫度​

・20℃~95℃

設定項目

・ IL / IV測量(CW)

・ Ir / Vr測量

・波長測量:標準兼容設備

    短波:OCEAN OPTICS HR2000 +

・ FFP測量(Far Field Pattern):1200萬像素攝像機圖像處理方法

・ NFP測量(Far Field Pattern):1200萬像素攝像頭圖像處理方法

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